概述uv光解廢氣處理設(shè)備的性能

 

 

 

uv光解廢氣處理設(shè)備，采用雙介質(zhì)阻撓放電形式產(chǎn)生等離子體，所產(chǎn)生等離子體的密度是其他技能產(chǎn)生等離子體密度的1500倍，*初用于氟利昂類、哈隆類物質(zhì)的分化處理，后延伸至工業(yè)惡臭、異味、有毒有害氣體處理。低溫等離子體的不足之處：

1.易產(chǎn)生火花放電，在高峰值電壓下，反應(yīng)器易產(chǎn)生火花放電，火花放電不僅增***電能消耗，并且破壞放電的正常進(jìn)行，凈化效率低，還存在危險(xiǎn)性。

2.當(dāng)填充資料直徑為3mm時(shí)，電場(chǎng)強(qiáng)度為4KV/cm時(shí)，因?yàn)閾舸┖突鸹ǖ漠a(chǎn)生，對(duì)苯等有機(jī)物的分化并不非常完全。

3.關(guān)于低溫等離子設(shè)備對(duì)設(shè)備部件的構(gòu)型設(shè)計(jì)、制造精度、嚴(yán)密性等要求很高。

比如對(duì)電場(chǎng)頻率、電壓、高頻的脈沖等參數(shù)，成套設(shè)備中如果其間的某個(gè)參數(shù)達(dá)不到要求，如電壓電低、頻率過高或過低一級(jí)會(huì)對(duì)離子體的產(chǎn)生量形成很***的影響，乃至?xí)纬杀剖录Ｎ夜驹O(shè)備能裂解惡臭氣體如:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無害或低害的化合物，如CO2、H2O等。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對(duì)有機(jī)物具有***別***的的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有極強(qiáng)的鏟除作用。

低溫等離子體在處理聚合物外表產(chǎn)生的交聯(lián)、化學(xué)改性、刻蝕主要是因?yàn)榈入x子體使聚合物表層分子產(chǎn)生斷鍵生成很多的自由基。試驗(yàn)闡明，跟著等離子處理時(shí)刻的延伸、放電功率增***,生成的自由基強(qiáng)度添加，到達(dá)****點(diǎn)后進(jìn)入一種動(dòng)態(tài)平衡;放電壓力在某一定值時(shí),自由基強(qiáng)度出現(xiàn)****值，即在***定條件下低溫等離子體對(duì)聚合物外表反應(yīng)的程度*深。

uv光解廢氣處理設(shè)備是超等團(tuán)隊(duì)依據(jù)廢氣管理的需求研發(fā)并制造的新一代廢氣處理產(chǎn)品，防爆型產(chǎn)品于2015年3月取得高檔防爆合格證。本產(chǎn)品主要應(yīng)用于高濕度、高爆破危險(xiǎn)性廢氣的管理。所謂低溫等離子是繼固體、氣體、液體三態(tài)后，列為物質(zhì)的***四態(tài)，由正離子、負(fù)離子、電子和中性粒子組成，因系統(tǒng)中正負(fù)電荷總數(shù)持平，故稱為“等離子體”。

。uv光解廢氣處理設(shè)備低溫等離子體的電離率較低，電子溫度遠(yuǎn)高于離子溫度，離子溫度乃至可與室溫相當(dāng)。所以低溫等離子體uv光解廢氣處理設(shè)備是非熱平衡等離子體，低溫等離子體中存在著很多的、種類繁多的活性粒子，比通常的化學(xué)反映所產(chǎn)生的活性粒子種類更多、活性更強(qiáng)，更易于和所接觸的資料外表產(chǎn)生反映，因而它們被用來對(duì)資料外表進(jìn)行改性處理。